教育经历：
2010/09-2014/07 北京科技大学大学冶金工程学院，本科学习
2014/09-今 中国地质大学（北京）大学工程技术学院，硕士研究生
已发表文章（申请专利）：
Sheng Zhang, Ziyu Lu, Jiang Sheng, Pingqi Gao, Xi Yang, Sudong Wu, Jichun Ye, and Makoto Kambara. In situ annealing and high-rate silicon epitaxy on porous silicon by mesoplasma process, Applied Physics Express 9, 055506 (2016).
研究方向：基于中亚等离子体外延技术的超薄单晶硅薄膜的制备
联系方式：luziyu@nimte.ac.cn