团队帮合作企业低成本的实现了环保友好型化学镀膜，而且工艺窗口更宽，防腐性能更好，在国内处于领先地位，并成功实现了无晶须镍彩桥架的量产，解决数据中心金属粉尘污染，并积累了不同应用要求的产业方案。产品已在小米、华为数据中心应用，出口日本、澳大利亚和美国等国家，写入了通信行业《金属网格式线缆桥架标准》, 已获得“国家云计算中心科技奖”-卓越奖（2019），“中国工程建设标准化协会2019年数据中心科技成果奖”-优秀奖，“国家互联网数据中心产业技术创新联盟技术创新奖”- 一等奖（2019）等奖项。
团队还利用良好的设备能力，在高通量材料基因组领域，承担了科技部重大研发计划，成功开发了世界上第一台高通量实验的CVD设备，实现了x100的通量，同时也开发了国内领先的高通量喷墨打印系统，用于各种器件的开发。
另外，团队还研制出国内首台中压等离子体化学气相沉积系统（世界第二台）。较传统的热CVD，该设备可以实现单晶硅x10的生长速度，低400°C的生长温度，以及高一倍的气体转化率。该设备还可以用于各类硅材料的快速低温生长，和垂直石墨烯墙等新材料的开发，应用广泛。
团队还利用中科院设备项目，搭建具有外加能量场辅助的温度更高的MOCVD设备，旨在解决高Al组份，含B组份的GaN材料的高质量外延生长。
