张胜

        教育经历：

        2008/09-2012/07  安庆师范大学  本科

        2013/09-2016/07  中国科学技术大学  硕士

发表文章：

1. Sheng Zhang, Ziyu Lu, Jiang Sheng, et al. In-situ annealing and fast rate silicon epitaxy on porous silicon by mesoplasma process. Applied Physics Express, 9, 055506 (2016)
2. Sudong Wu, Sheng Zhang, Jichun Ye. Epitaxial silicon film deposition on porous silicon by meseplasma CVD. ICEAS 3692 (2015)
3. 张胜、吕刚、邬苏东、高平奇、叶继春*，电化学腐蚀制备多孔硅及多孔硅膜的自剥离研究，第10届中国太阳级硅及光伏发电研讨会，常州，2014.11.6-8

专利：

1. 邬苏东，叶继春，高平奇，杨映虎，韩灿，张胜. 电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备，申请日：2015.05.20，发明专利，申请号：201510259687.5
2. 邬苏东，叶继春，高平奇，杨映虎，韩灿，张胜. 电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备，申请日：2015.05.20，实用新型专利，申请号：201520328198.6
3. 叶继春，韩灿，邬苏东、高平奇，杨映虎，张胜. 衬底温度的控制方法、装置及薄膜沉积设备，申请日：2015.05.20，发明专利，申请号：201510260343.6

研究方向：中压等离子体CVD在退火的多孔硅上快速外延单晶硅薄膜

联系方式：1790437974@qq.com

毕业去向：台积电（南京）有限公司